產品分類
250無氰鹼性鍍鋅 AIMT 250 Cyanide Free Alkaline Zinc Plating
AIMT 250 Cyanide Free Alkaline Zinc Plating |
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250無氰鹼性鍍鋅 |
工藝編號: |
52250 |
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簡介:
鍍液穩定,操作簡單,容易控制(以1A、30分鐘赫爾試片為例,僅有約25%的變動)
? 能沉積高亮度的鍍鋅層 |
? 易于鈍化 |
? 具有良好的延展性 |
? 完全適合于吊鍍,也適用于滾鍍或連續性電鍍 |
? 即使是形狀較復雜的工件,也能輕易上鍍 |
? 高電流密度區不容易燒焦 |
? 廢水處理容易 |
? 可連接線外鋅溶解槽 |
鍍液組份:
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范圍 |
最佳 |
氧化鋅 |
10 - 19克/升 |
12.5克/升 |
氫氧化鈉 |
110 - 150克/升 |
120克/升 |
碳酸鈉 |
10 - 80克/升 |
50克/升 |
AIMT Zn 251 |
5 - 15毫升/升 |
10毫升/升 |
AIMT Zn 252 |
0. 5 - 2毫升/升 |
1毫升/升 |
AIMT Zn 255 |
5 - 15毫升/升 |
10毫升/升 |
AIMT Zn 256 |
0 - 4毫升/升 |
必要時才使用 |
配制:往槽中加入所需總量1/3的去離子水,邊攪拌邊慢慢溶解氫氧化鈉(注意:溶液會發熱);加入氧化鋅,攪拌至溶液澄清;再加入碳酸鈉并用去離子水加到最終水量;加入AIMT Zn 251和AIMT Zn 255;用低電流密度進行電解6 - 8小時;最后加入AIMT Zn 252。
分析和維護:
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范圍 |
最佳 |
鋅 |
8 - 15克/升 |
10克/升 |
氫氧化鈉 |
110 - 150克/升 |
120克/升 |
碳酸鈉 |
<80克/升 |
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分析鋅和氫氧化鈉的含量。通過調整陽極表面或外置式鋅溶解槽來穩定鋅濃度,并依據分析值添加氫氧化鈉。
環保注意事項
所有的濃液、沖洗水和廢水必須根據當地污水管制規章排放?;瘜W品應存儲于10℃以下。
消耗量:
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*取決于帶出液 |
電解液 |
AIMT Zn 251 |
83 mL/kg氫氧化鈉 |
50–150ml/1000Ah |
AIMT Zn 252 |
17 mL/kg氫氧化鈉 |
50–150ml/1000Ah |
AIMT Zn 255 |
83 mL/kg氫氧化鈉 |
0 |
*僅對給定的組成值有效
總的消耗量包含帶出和電解消耗,因而補充時也應同時考慮這兩個因素。
操作參數:
溫度: |
20—40℃ |
陰極電流密度: |
0.5—6A/dm2 |
電流效率: |
50—80% |
沉積率(1A/dm2): |
0.2微米/分鐘 |
槽體: |
塑料或帶有塑料襯層的鋼 |
攪拌: |
陰極攪拌(3—5米/分鐘) |
過濾: |
必須連續過濾 |
冷卻: |
如使用高電流及高負載時是有必要的 |
排氣: |
強烈要求使用,尤其是使用惰性陽極時 |
陽極:
建議用惰性陽極與外置式鋅溶解槽結合使用,同時AIMT Zn 250也可以和可溶性鋅陽極結合使用,但強烈反對AIMT Zn 250與可溶性、惰性陽極混合使用。
惰性陽極與外置式鋅溶解槽結合使用:
陽極由多孔性金屬網(30mm×8mm篩目,肋板寬6mm,厚2mm)和低碳鋼(如:ST38)組成,低碳鋼必須鍍上15微米的半光亮鎳。多孔性金屬網應按肋板處于平行狀態方向放置,以使產生的氣體帶入背面。
在多孔性金屬網上電鍍半光亮鎳前,必須與扁平的鐵板連接并加強,垂直懸掛于陽極鉤上,為優化電流分布,陽極應相對于陰極的兩邊的最寬之處等距放置。陽極電流密度可達20A/dm2。
電鍍過半光亮鎳(NITEC SF)的籃式鋅溶解容器(籃子最優尺寸:根據德國標準DIN1011/10051為62.5mm×62.5mm×1000mm孔徑為1.5mm的穿孔低碳鋼DD11GK;穿孔Rv3—5 DIN 24041)?;@子里裝滿鋅片(大約100mm,鉛含量<0.002%)。通過調整鍍槽與鋅溶解器之前交換速率來控制電解液中鋅的濃度。通過聯機計算來確定催化籃的數目及鋅發生器的尺寸。
操作可溶性陽極:
可溶性鋅陽極的片狀、棒狀及球狀置于鈦籃中,或將鋅陽極板置于鈦鉤上(鋅陽極板中鉛的含量通常應<0.002%)。當電流密度達到3A/d㎡,陽極電流效率約為100%。超過 3A/d㎡陽極板上會覆蓋上一層半導電氧化鋅鍍層,陽極變黑,槽電壓突然增至3—4V,陽極電流效率隨著氧氣析出95-98%而降低至2-5%。然而,此方法使用上較難通過調整陽極面來控制電解液中鋅的含量,陽極必須持續的移進移出,因此,電鍍槽中的電流不可能均勻分布。
問題解決:
在參考以下列表前,應當確保其溫度、電流密度及分析值都在操作范圍內。赫爾槽試驗應用250毫升赫爾槽在1A,時間為15分鐘,鋼試片應經過充分的預處理。電鍍后的赫爾槽試片必須用0.5 vol%硝酸浸泡15秒,再用自來水沖洗,然后用熱空氣干燥。
現象 |
原因 |
解決措施 |
在整個電流密度范圍內,鍍層光亮且均勻 |
電解液沒問題 |
無 |
深鍍能力差 |
AIMT Zn251濃度太低 |
按2-5毫升/升逐步加入AIMT Zn251,在每次向電鍍槽中添加之前都應經過赫爾槽試驗驗證 |
在整個電流密度范圍內,膜層低但光亮且均勻 |
AIMT Zn252濃度太低 |
按0.25毫升/升逐步加入AIMT Zn252,在每次向電鍍槽中添加之前都應經過赫爾槽試驗驗證 |
鍍鋅層上出現無光澤的不規則區 |
a)預處理較差 |
改善預處理工作(注意:要獲得較好的試驗結果,赫爾槽試驗中預處理也同樣很重要) |
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b)水質硬度太高 |
對于這種情況,可按3-5毫升/升加入AIMT Zn255到電解液中,,在每次向電鍍槽中添加之前都應經過赫爾槽試驗驗證 |
樹枝狀結晶分布在整個電流密度范圍內 |
AIMT Zn 252 過量 |
消耗 |
電流效率差,在低電流密度區無鍍層 |
a)AIMT Zn 251 過量 b)含六價雜質鉻 |
消耗 根據赫爾槽試驗加入還原劑連二亞硫酸鈉 |
無色鈍化層 |
a)鈍化槽調節錯誤 b)鋅電解液中含有金屬雜質 |
檢查鈍化槽并活化 除掉雜質的來源;或在低電流密度下使用空電鍍除雜質 |
在低電流密度區鍍層呈暗灰色 |
雜質鉛(約為1 ppm或更高) |
a)用鋅粉劑(1克/升)處理電解液 b)加入AIMT Zn 256 |
分析方法請向本公司技術部查詢。
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V1.1TC110331
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