鍍液穩定，操作簡單，容易控制(以1A、30分鐘赫爾試片為例，僅有約25%的變動）??能沉積高亮度的鍍鋅層?易于鈍化?具有良好的延展性?完全適合于吊鍍，也適用于滾鍍或連續性電鍍?即使是形狀較復雜的工件,也能輕易上鍍?高電流密度區不容易燒焦?廢水處理容易?可連接線外鋅溶解槽?鍍液組份：??????范圍最佳氧化鋅10-19克/升12.5克/升氫氧化鈉110-150克/升120克/升碳酸鈉10-80克/升50克/升AIMTZn2515-15毫升/升10毫升/升AIMTZn252?0.5-2毫升/升1毫升/升AIMTZn2555-15毫升/升10毫升/升AIMTZn2560-4毫升/升必要時才使用????????配制：往槽中加入所需總量1/3的去離子水，邊攪拌邊慢慢溶解氫氧化鈉（注意：溶液會發熱）；加入氧化鋅，攪拌至溶液澄清；再加入碳酸鈉并用去離子水加到最終水量；加入AIMTZn251和AIMTZn255；用低電流密度進行電解6-8小時；最后加入AIMTZn252。?分析和維護：??范圍???????????最佳鋅8-15克/升10克/升氫氧化鈉110-150克/升120克/升碳酸鈉＜80克/升?分析鋅和氫氧化鈉的含量。通過調整陽極表面或外置式鋅溶解槽來穩定鋅濃度，并依據分析值添加氫氧化鈉。?環保注意事項所有的濃液、沖洗水和廢水必須根據當地污水管制規章排放?；瘜W品應存儲于10℃以下。?消耗量：??*取決于帶出液電解液AIMTZn25183mL/kg氫氧化鈉50–150ml/1000AhAIMTZn252?17mL/kg氫氧化鈉50–150ml/1000AhAIMTZn25583mL/kg氫氧化鈉0*僅對給定的組成值有效總的消耗量包含帶出和電解消耗，因而補充時也應同時考慮這兩個因素。?操作參數：?溫度：20—40℃陰極電流密度：0.5—6A/dm2電流效率：50—80%沉積率（1A/dm2）：0.2微米/分鐘槽體：塑料或帶有塑料襯層的鋼攪拌：陰極攪拌（3—5米/分鐘）過濾：必須連續過濾冷卻：如使用高電流及高負載時是有必要的排氣：強烈要求使用，尤其是使用惰性陽極時?陽極：建議用惰性陽極與外置式鋅溶解槽結合使用，同時AIMTZn250也可以和可溶性鋅陽極結合使用，但強烈反對AIMTZn250與可溶性、惰性陽極混合使用。惰性陽極與外置式鋅溶解槽結合使用：陽極由多孔性金屬網（30mm×8mm篩目，肋板寬6mm，厚2mm）和低碳鋼（如：ST38）組成，低碳鋼必須鍍上15微米的半光亮鎳。多孔性金屬網應按肋板處于平行狀態方向放置，以使產生的氣體帶入背面。在多孔性金屬網上電鍍半光亮鎳前，必須與扁平的鐵板連接并加強，垂直懸掛于陽極鉤上，為優化電流分布，陽極應相對于陰極的兩邊的最寬之處等距放置。陽極電流密度可達20A/dm2。電鍍過半光亮鎳（NITECSF）的籃式鋅溶解容器（籃子最優尺寸：根據德國標準DIN1011/10051為62.5mm×62.5mm×1000mm孔徑為1.5mm的穿孔低碳鋼DD11GK；穿孔Rv3—5DIN24041）?；@子里裝滿鋅片（大約100mm，鉛含量＜0.002%）。通過調整鍍槽與鋅溶解器之前交換速率來控制電解液中鋅的濃度。通過聯機計算來確定催化籃的數目及鋅發生器的尺寸。操作可溶性陽極：可溶性鋅陽極的片狀、棒狀及球狀置于鈦籃中，或將鋅陽極板置于鈦鉤上（鋅陽極板中鉛的含量通常應＜0.002%）。當電流密度達到3A/d㎡，陽極電流效率約為100%。超過????3A/d㎡陽極板上會覆蓋上一層半導電氧化鋅鍍層，陽極變黑，槽電壓突然增至3—4V，陽極電流效率隨著氧氣析出95-98%而降低至2-5%。然而，此方法使用上較難通過調整陽極面來控制電解液中鋅的含量，陽極必須持續的移進移出,因此，電鍍槽中的電流不可能均勻分布。?問題解決：在參考以下列表前，應當確保其溫度、電流密度及分析值都在操作范圍內。赫爾槽試驗應用250毫升赫爾槽在1A，時間為15分鐘，鋼試片應經過充分的預處理。電鍍后的赫爾槽試片必須用0.5vol%硝酸浸泡15秒，再用自來水沖洗，然后用熱空氣干燥。?現象原因解決措施在整個電流密度范圍內，鍍層光亮且均勻電解液沒問題無深鍍能力差AIMTZn251濃度太低按2-5毫升/升逐步加入AIMTZn251，在每次向電鍍槽中添加之前都應經過赫爾槽試驗驗證在整個電流密度范圍內，膜層低但光亮且均勻AIMTZn252濃度太低按0.25毫升/升逐步加入AIMTZn252，在每次向電鍍槽中添加之前都應經過赫爾槽試驗驗證鍍鋅層上出現無光澤的不規則區a)預處理較差改善預處理工作（注意：要獲得較好的試驗結果，赫爾槽試驗中預處理也同樣很重要）?b)水質硬度太高對于這種情況，可按3-5毫升/升加入AIMTZn255到電解液中，，在每次向電鍍槽中添加之前都應經過赫爾槽試驗驗證樹枝狀結晶分布在整個電流密度范圍內AIMTZn252過量消耗電流效率差，在低電流密度區無鍍層a)AIMTZn251過量b)含六價雜質鉻消耗根據赫爾槽試驗加入還原劑連二亞硫酸鈉無色鈍化層a)鈍化槽調節錯誤b)鋅電解液中含有金屬雜質檢查鈍化槽并活化除掉雜質的來源；或在低電流密度下使用空電鍍除雜質在低電流密度區鍍層呈暗灰色雜質鉛（約為1ppm或更高）a)用鋅粉劑（1克/升）處理電解液b)加入AIMTZn256?分析方法請向本公司技術部查詢。________V1.1TC110331本說明書為中文譯本，只供參考，應以英文版為準。本說明書上所有建議，是根據信賴的實驗室資料編成，由于不同的生產設備及工藝條件，可能會造成效果的差異，本公司并不承擔任何責任。本說明書的所有內容不能作為侵犯版權的證據。